Titaanist ümmargune sihtmärk

Titaanist ümmargune sihtmärk on titaanist valmistatud lame,{0}}kettakujuline sihtmärk, mida kasutatakse tavaliselt sellistes rakendustes nagu pihustamine, katmine või materjali sadestamine. Ringikujuline kuju tagab materjali ühtlase jaotumise, kui seda kasutatakse sellistes protsessides nagu õhukese-kile sadestamine või ioonide implanteerimine.

Titaanist ümmargune sihtmärk on ketta{0}}kujuline, kõrge puhtusastmega-titaani lähtematerjal, mis on mõeldud kasutamiseks füüsikalise aurustamise-sadestamise (PVD) süsteemides, eriti magnetroni pihustusprotsessides. Selle ümmargune geomeetria võimaldab selle paigaldada standardsetesse tasapinnalistesse pihustuskatoodidesse, kus seda pommitatakse ioonidega, et eemaldada titaaniaatomid, mis seejärel sadestuvad õhukese kilena substraatidele.

1. Materjal:
Tavaliselt valmistatud kõrge-puhtusastmega titaanist (Ti) või titaanisulamitest (nt Ti-6Al-4V), mis pakub suurepärast tugevust, madalat tihedust ja kõrget korrosioonikindlust.

Puhtus võib olenevalt konkreetsest rakendusest erineda, kuna 99,9% puhast titaani kasutatakse sageli kõrgete{1}}jõudlusnõuete täitmiseks.

2. Kuju:
Ringikujuline: ühtlase läbimõõduga lame ümmargune ketas.
Läbimõõt: tavalised suurused on vahemikus 50 mm kuni 300 mm (2 tolli kuni 12 tolli) või rohkem, olenevalt rakenduse vajadustest.
Paksus: ketta paksus on tavaliselt 2–10 mm, kuigi see võib varieeruda sõltuvalt pihustus- või sadestamissüsteemi nõuetest.
3. Pinna viimistlus:
Sõltuvalt pihustus- või sadestamisprotsessi soovitud tulemusest võib pinda poleerida või karestada.
Ühtlaseks sadestamiseks eelistatakse tavaliselt siledat pinda, samas kui karedat pinda saab kasutada spetsiifiliste katteefektide jaoks.
4. Omadused:
Kõrge korrosioonikindlus agressiivsete kemikaalide suhtes, eriti sellistes tööstusharudes nagu lennundus või merendus.
Kõrge sulamistemperatuur (umbes 1668 kraadi või 3034 kraadi F), mis muudab selle ideaalseks kõrgel temperatuuril{4}}käivate protsesside jaoks.
Kerge ja tugev, muutes selle ideaalseks õhukese{0}kile sadestamiseks, kus on vaja suurt täpsust.
5.Puhtsus
Kõrge -puhtusastmega titaansihtmärke (puhtus üle 99,9%) kasutatakse sageli pihustusprotsessides, et kanda aluspindadele õhukesi kilesid pooljuhtide tootmises, optikas ja muudes täppistööstuses.
Madalama puhtusastmega titaani sihtmärke võib kasutada muudes protsessides, nagu kaarsadestamine või üldiseks katmiseks erinevates tööstuslikes rakendustes.

Pooljuht ja mikroelektroonika:
Difusioonitõkked ja adhesioonikihid kiipide ühendamise struktuurides
Elektroodid mäluseadmetes ja andurites
Värava metalliseerimine transistorides
Optilised ja fotogalvaanilised katted:
Läätsede-peegeldus- ja kaitsekatted
Läbipaistvad juhtivad oksiidikihid (TCO) õhukeses{0}}kilega päikesepatareides
Dekoratiivsed ja funktsionaalsed katted prillidel ja kaameraläätsedel
Uurimis- ja arendustegevus:
Labori{0}}skaalasüsteemide kõige levinum kuju standardimise tõttu
Kasutatakse ülikooli- ja tööstuslaborites materjaliteaduse uurimiseks
Uute õhukese{0}kilega seadmete ja katete prototüüpimine
Meditsiiniseadmete katted:
Bioühilduvad katted implantaatidel ja kirurgilistel tööriistadel
Ortopeediliste implantaatide hüdroksüapatiitkatete aluskiht
Dekoratiivsed ja funktsionaalsed katted:
Titaannitriidi (TiN) ja muude värviliste PVD-katete alusmaterjal
Kandke lõiketööriistade, vormide ja täppiskomponentide-kindlaid katteid

Kuum tags: titaanist ümmargune sihtmärk, Hiina titaani ümmarguse sihtmärgi tootjad, tarnijad, tehas